PROGRAM:
13:50 – 14:00 - Registrace účastníků semináře
14:00 – 14:05 - Zahájení semináře (David Škoda)
14:05 – 14:20 - Rekapitulace základních bodů zakázky na dodávku
polovodičových technologií, požadavky na připravenost pracoviště při instalaci jednotlivých technologií – elektrické a plynové rozvody, rozvody chladící vody, vzduchotechnika, rekuperace tepla, čisté prostory (Pavel Lukašík)
14:20 – 14:30 - Diskuse připravenosti pracoviště, předpokládané termíny
14:30 – 14:50 - Možnosti a specifika oxidačních procesů (suchý a mokrý oxid SiO2) a procesů fosforové a borové difúze (Pavel Lukašík, Aleš Poruba)
14:50 – 15:10 - Možnosti a specifika LPCVD procesů (SiNx, SiOxNy, HTO, LTO) (Pavel Lukašík)
15:10 – 15:20 - Diskuse atmosférických polovodičových procesů
15:20 – 15:30 - Úvod do problematiky MOCVD procesů (Pavel Lukašík, Aleš Poruba)
15:30 – 16:00 - Typické konstrukce MOCVD reaktorů pro „III-V“ polovodiče (Martin Vallo)
16:00 – 16:30 - Specifika MOCVD přípravy požadovaných vrstev (TiO2, ZnO, ZrO2, Fe2O3, PZT, HfO2, BaTiO3) ve vztahu k jejich požadovaným vlastnostem (Aleš Poruba)
16:30 – 17:30 - Diskuse MOCVD procesů
